CZA-4N/Máy lọc khí trơ FX Series

Dòng CZA-4N/FX
Nguyên tắc của bộ lọc khí trơ là sử dụng chất hấp phụ hợp kim ở nhiệt độ cao có thể phản ứng với các tạp chất như oxy, nitơ, nước, carbon dioxide và hydrocacbon để tạo ra các hợp chất ổn định hoặc dung dịch rắn để loại bỏ các tạp chất trên trong khí trơ như argon, helium, neon, xenon để đạt được mục đích tinh khiết, khí tinh khiết cao thu được sau khi thanh lọc đã được sử dụng rộng rãi trong phân tích và nghiên cứu khoa học của chất bán dẫn, điện tử, luyện kim, sản xuất pin lithium, sợi quang và các ngành công nghiệp khác.
Tính năng sản phẩm
Độ tinh khiết cao, không chỉ loại bỏ O₂Các tạp chất hoạt bát hơn, và có thể loại bỏ n.₂Tạp chất trơ, đây là điều mà máy tinh lọc bình thường không làm được.
n Bộ lọc này là cấu trúc tháp đôi, một nhóm làm việc, một nhóm khác dự phòng, hai máy lọc hàng đầu được sử dụng;
n Nhiệt độ hoạt động thấp hơn và tiêu thụ ít năng lượng hơn.
n loạt các bộ lọc được cấu hình với tháp pre-purification, trước khi tháp hấp phụ hợp kim đã loại bỏ các tạp chất sống động hơn, do đó kéo dài đáng kể tuổi thọ của tháp hấp phụ hợp kim
Thông số kỹ thuật

Tên thiết bị	Mô hình thiết bị	Cách làm việc	Ghi chú
Máy lọc khí trơ	CZA-4N	Bán tự động	Ar
	FX□-Z	Bán tự động	Chọn Ar, He, Xe, Ke hoặc Ne
Yêu cầu khí gốc Ar、He	Độ tinh khiết	≥99,99% tổng hợp đóng chai argon tinh khiết, argon lỏng
	Yêu cầu tạp chất	O2≤200PPm, H2O≤1000PPm，N2≤100PPm
Đầu ra khí tinh khiết	Độ tinh khiết	≥99.9999%
	Nội dung tạp chất	O2≤0.5PPm； N2≤0.5PPm； H2O ≤ 1PPm (tức là điểm sương ≤ -76 ℃); CO+CO2≤0.1PPm； Số hạt bụi (≥0,3μm) 3-5/lít
Áp lực công việc	0～1.0MPa
Xử lý khối lượng không khí	1～4Nm3/h
Ghi chú	Có thể được thiết kế và sản xuất theo yêu cầu của người dùng